Physical Vapor Deposition of Thin Films

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作      者
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出版时间
2000年01月18日
装      帧
精装
ISBN
9780471330011
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页      码
336
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图书简介
This volume examines physical vapour deposition, one of the main methods for preparing thin films for integrated circuit manufacturing and many other high-tech industries. It introduces unified treatment of the field of physical vapour deposition, drawing on a wide range of physical science.
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