This book presents a complete theoretical and practical treatment of the topic of lithography for both students and researchers. This text comprises of ten detailed chapters as well as three appendices which provide problems at the end of each chapter. From the Contents: 1 - Introduction to Semiconductor Lithography 2 - Aerial Image Formation 3 - Standing Waves and Swing Curves 4 - Photoresist Exposure and Amplification Kinetics 5 - Photoresist Bake Effects 6 Photoresist Development 7 Critical Dimension Control 8 Resolution Enhancement Technologies 9 Lithography Simulation 10 Future Developments

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