Glow Discharge Processes:Sputtering and Plasma Etching

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作      者
出  版 社
出版时间
1980年09月11日
装      帧
精装
ISBN
9780471078289
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页      码
432
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图书简介
Develops detailed understanding of the deposition and etching of materials by sputtering discharge, and of etching of materials by chemically active discharge. Treats glow discharge at several levels from basic phenomena to industrial applications--practical techniques diligently related to fundamentals. Subjects range from voltage, distributions encountered in plasma etching systems to plasma-electron interactions that contribute to sustaining the discharge.
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